2030년까지 133조원 투자·1만5천명 채용
국내 중소업체 파운드리 생산 지원 등 산업 생태계 협력 강화
삼성전자는 먼저 시스템 반도체 사업경쟁력 강화를 위해 2030년까지 국내 R&D(연구·개발) 분야에 73조원, 최첨단 생산 인프라에 60조원을 투자한다.
삼성전자 관계자는 "R&D 투자금액이 73조원 규모에 달해 국내 시스템 반도체 연구개발 인력 양성에 기여할 것으로 기대된다"며 "생산시설 확충에도 60조원이 투자돼 국내 설비·소재 업체를 포함한 시스템 반도체 생태계 발전에도 긍정적인 영향이 예상된다"고 말했다.
향후 경기도 화성공장 신규 EUV(극자외선 노광)라인을 활용해 생산량을 증대하고 국내 신규 라인 투자도 지속 추진할 계획이다.
아울러 국내 팹리스 업체를 지원하는 등 상생협력을 통해 한국 시스템 반도체 산업생태계를 강화한다. 국내 중소 팹리스 고객들이 제품 경쟁력을 강화하고 개발기간도 단축할 수 있도록 인터페이스IP, 아날로그 IP, 시큐리티(Security) IP 등 삼성전자가 개발한IP(Intellectual Property·설계자산)를 호혜적으로 지원한다.
또한 보다 효과적으로 제품을 개발할 수 있도록 삼성전자가 개발한 설계/불량 분석 툴(Tool) 및 소프트웨어 등도 지원할 계획이다.
삼성전자 관계자는 "소품종 대량생산 체제인 메모리 반도체와 달리 다품종 소량생산이 특징인 시스템 반도체 분야의 국내 중소 팹리스업체는 지금까지 수준 높은 파운드리 서비스를 활용하는데 어려움이 있었다"며 "삼성전자는 이러한 어려움을 해소하기 위해 반도체 위탁생산 물량 기준도 완화해 국내 중소 팹리스업체의 소량제품 생산을 적극적으로 지원할 계획"이라고 설명했다.
이에 더해 국내 중소 팹리스 업체의 개발활동에 필수적인 MPW(Multi-Project Wafer·웨이퍼 하나에 여러 종류의 칩을 생산해 테스트함으로써 비용 절감하는 과정) 프로그램을 공정당 년 2~3회로 확대 운영한다.
삼성전자는 국내 디자인하우스 업체와의 외주협력도 확대해 나갈 계획이다.
이욱신 기자
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